Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://eir.kntu.net.ua/jspui/handle/123456789/1815| Назва: | Дослідження складу косметичної маски для обличчя |
| Автори: | Шарова, В. В. |
| Ключові слова: | Косметична маска мінеральна глина лікарська рослинна сировина гель-маска органолептичні показники |
| Дата публікації: | 2024 |
| Видавництво: | ХНТУ |
| Бібліографічний опис: | Шарова, В. В. Дослідження складу косметичної маски для обличчя : кваліфікаційна робота на здобуття ступеня вищої освіти «магістр» / В. В. Шарова ; наук. керівник доц., канд. техн. наук Л. В. Салєба. – Хмельницький : ХНТУ, 2024. – 83 с. |
| Короткий огляд (реферат): | В роботі розроблено рецептуру косметичної маски, яка складається із суміші косметичної глини з подрібненим листям шавлії (склад № 1) і гелевої основи (склад № 2). Проведено визначення органолептичних і споживчих показників якості косметичної маски. Результати використання маски із вмістом листя шавлії свідчать про відсутність почервоніння, подразнення під час тривалого використання. Запропоновано технологічну схему виготовлення маски, обладнання для її виготовлення і проведено розрахунок матеріального балансу. Проведено аналіз професійної захворюваності на виробництві косметичних засобів. Розроблено заходи з охорони праці на робочому місці працівника цеху виробництва косметики. В екологічній частині розглянуто деякі шкідливі речовини, що застосовують на косметично-парфумерних виробництвах та небезпечні речовини у вигляді відходів і шкідливих викидів, що виникають в процесі виробництва косметичних масок. |
| URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | http://eir.kntu.net.ua/jspui/handle/123456789/1815 |
| Розташовується у зібраннях: | Спеціальність 161 Хімічні технології харчових добавок та косметичних засобів |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Шарова В. В. Дослідження складу косметичної маски для обличчя.pdf | 163.73 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.